90 5 TRANZYSTORY POLOWE 5.1. ZASADA DZIAAANIA I PODZIAA TRANZYSTORÓW POLOWYCH W tranzystorach polowych prÄ…d noÅ›ników wiÄ™kszoÅ›ciowych jest sterowany poprzecznym polem elektrycznym - sÄ… to noÅ›niki jednego znaku, dlatego też czÄ™sto nazywane sÄ… tranzystorami unipolarnymi. Jest to prÄ…d dryftowy, pÅ‚ynÄ…cy pomiÄ™dzy elektrodami nazywanymi zródÅ‚em S (source) i drenem D (drain) przez obszar półprzewodnika nazywany kanaÅ‚em (channel), w który wnika pole elektryczne z elektrody G nazywanej bramkÄ… (gate). W zÅ‚Ä…czowym tranzystorze polowym JFET (Junction Field Efect Transistor) bramka i leżący pod niÄ… kanaÅ‚ tworzÄ… półprzewodnikowe zÅ‚Ä…cze skokowe p -n lub n -p, w którym obszar kanaÅ‚u jest sÅ‚abiej zdomieszkowany (rys.5.1a). Tranzystory polowe zÅ‚Ä…czowe - JFET: - z n-kanaÅ‚em: U >0, I >0, U <0 i U <0 + + = - = - =- - z p-kanaÅ‚em: U <0, I <0, U >0 i U >0 + + = = - = Rys.5.1a. Przekroje, symbole graficzne, sposób polaryzacji oraz charakterystyki przejÅ›ciowe i wyjÅ›ciowe tranzystorów polowych zÅ‚Ä…czowych (JFET) 91 Tranzystory polowe z izolowanÄ… bramkÄ… (MOSFET) normalnie wÅ‚Ä…czone: - z n-kanaÅ‚em zubożanym: U >0, I >0, U <0 i U <0 + Izolacja bramki = - SiO2 > = < - z p-kanaÅ‚em zubożanym: U <0, I <0, U >0 i U >0 + Izolacja bramki SiO2 > = < = - Rys.5.1b. Przekroje, symbole graficzne, sposób polaryzacji oraz charakterystyki przejÅ›ciowe i wyjÅ›ciowe tranzystorów polowych z izolowana bramkÄ… z kanaÅ‚em zubożanym (MOSFET) W tranzystorze polowym z izolowanÄ… bramkÄ… IG-MOSFET (Isolated- Gate Metal-Oxide-Semiconductor Field Efect Transistor) obszar kanaÅ‚u jest izolowany od elektrody bramki cienkÄ… warstwÄ… SiO (rys.5.1b i rys.5.1c). W tranzystorach MOSFET z kanaÅ‚em zubożanym (rys.5.1b) kanaÅ‚ jest wdyfundowanym obszarem typu n lub p w podÅ‚o że (body) przeciwnego typu - natomiast w tranzystorach MOSFET z kanaÅ‚em wzbogacanym (rys.5.1c) kanaÅ‚ jest przypowierzchniowÄ… warstwÄ… inwersyjnÄ… wywoÅ‚anÄ… odpowiednim potencjaÅ‚em bramki. Zatem przy zerowym potencjale na bramce tranzystora MOSFET z kanaÅ‚em zubożanym (ang.: depletion-type MOSFET) przez kanaÅ‚ pÅ‚ynie prÄ…d pomiÄ™dzy zródÅ‚em a drenem pod wpÅ‚ywem przyÅ‚ożonego napiÄ™cia U - mówimy, że tranzystor jest normalnie zaÅ‚Ä…czony, zaÅ› tranzystor MOSFET z kanaÅ‚em wzbogacanym (ang.: depletion-type MOSFET) jest normalnie wyÅ‚Ä…czony przy każdej wartoÅ›ci napiÄ™cia U . 92 Tranzystory polowe z izolownÄ… bramkÄ… MOSFET normalnie wyÅ‚Ä…czone: - z n-kanaÅ‚em wzbogacanym: U >0, I >0, U >0 i U >0 - + Izolacja bramki = - SiO2 - z p-kanaÅ‚em wzbogacanym: U <0, I <0, U <0 i U <0 + Izolacja bramki SiO2 < = - Rys.5.1c. Przekroje, symbole graficzne, sposób polaryzacji oraz charakterystyki przejÅ›ciowe i wyjÅ›ciowe tranzystorów polowych z izolowana bramkÄ… z kanaÅ‚em wzbogacanym (MOSFET) Tranzystory JFET sÄ… zawsze normalnie zaÅ‚Ä…czone, a pole elektryczne bramki moduluje konduktancjÄ™ kanaÅ‚u zmieniajÄ…c jego przekrój poprzeczny do kierunku prÄ…du. Przy charakterystycznym dla każdego tranzystora napiÄ™ciu na bramce U a"U , nazywanym napiÄ™ciem progowym, zanika prÄ…d drenu oraz caÅ‚kowicie znika obszar neutralny kanaÅ‚u: nastÄ™puje odciÄ™cie kanaÅ‚u (pinch-off). Podobnie zachowujÄ… siÄ™ tranzystory MOSFET z kanaÅ‚em zubożanym. W tranzystorze MOSFET z kanaÅ‚em wzbogacanym kanaÅ‚ zostaje zaindukowany dopiero wtedy, gdy napiÄ™cie na bramce przekroczy wartość progowÄ… U (threshold): wtedy koncentracja noÅ›ników mniejszoÅ›ciowych w warstwie inwersyjnej jest równa koncentracji noÅ›ników wiÄ™kszoÅ›ciowych w podÅ‚ożu i przez kanaÅ‚ pÅ‚ynie znaczÄ…cy prÄ…d drenu. W wiÄ™kszoÅ›ci zastosowaÅ„ ukÅ‚adowych tranzystory polowe pracujÄ… w konfiguracji wspólnego zródÅ‚a (OS). Wybór punktu pracy na prÄ…dowych 93 charakterystykach: wejÅ›ciowych I (U ,U ) oraz wyjÅ›ciowych I (U ,U ) okreÅ›la zakres pracy i decyduje o parametrach maÅ‚osygnaÅ‚owych tranzystora. 5.2. ZACZOWY TRANZYSTOR POLOWY JFET I JEGO MODELE Schematyczny przekrój zÅ‚Ä…czowego tranzystora polowego (JFET) przedstawia rys.5.2. S U D DS U G GS W obszar p+ p+-Si H(x) y z a h(x) n-Si obszar n+ x L Rys.5.2. Przekrój i sposób polaryzacji zÅ‚Ä…czowego tranzystora polowego z n-kanaÅ‚em (n-JFET) Widzimy, że jednorodny kanaÅ‚ w półprzewodniku typu n o wysokoÅ›ci a jest ograniczany przez obszar Å‚adunku przestrzennego o wysokoÅ›ci H(x) w ten sposób, że wysokość kanaÅ‚u typu n wynosi tylko h(x) = a - H(x) . Taki zasiÄ™g obszaru Å‚adunku przestrzennego może pochodzić od zÅ‚Ä…cza p+-n (w tranzystorze n-JFET) lub od zÅ‚Ä…cza metal- półprzewodnik (w tranzystorze MESFET). W każdym przypadku, przy jednorodnie zdomieszkowanym kanale typu n o koncentracji donorów N , wysokość kanaÅ‚u elektronowego wynosi ëÅ‚ U(x)+È0 -UGS öÅ‚ ÷Å‚ h(x)= aìÅ‚1 - (5.1) ìÅ‚ UP +È0 ÷Å‚ íÅ‚ Å‚Å‚ gdzie: È - napiÄ™cie dyfuzyjne zÅ‚Ä…cza p+-n lub M-S, U(x) - spadek napiÄ™cia wzdÅ‚uż kanaÅ‚u o dÅ‚ugoÅ›ci L i szerokoÅ›ci W, U - napiÄ™cie progowe, przy którym ciÄ…gÅ‚ość obszaru neutralnego pomiÄ™dzy zródÅ‚em a drenem na caÅ‚ej dÅ‚ugoÅ›ci kanaÅ‚u zostaje przerwana: h(0)=a, czyli kanaÅ‚ zostaje caÅ‚kowicie odciÄ™ty (pinch-off). W tych warunkach, dla x=0, U(0)=0 i z zależnoÅ›ci (5.1) otrzymamy dla tranzystora z kanaÅ‚em n UGS(off) = -U (5.2a) P 94 NapiÄ™cie U okreÅ›lone jest zależnoÅ›ciÄ… a2qNd UP = -È a" U -È (5.2b) 2µsµ0 0 P0 0 gdzie U jest okreÅ›lane jako wewnÄ™trzne napiÄ™cie odciÄ™cia. PrÄ…d drenu jest tylko prÄ…dem dryftowym, to jest strumieniem elektronów pÅ‚ynÄ…cych przez neutralny kanaÅ‚ o dÅ‚ugoÅ›ci L i przekroju h(x)W, w polu elektrycznym -dU (x) /dx dla każdego x (0 d" x d" L) ID = qµnNd h(x)dUDS (x) (5.3) dx ScaÅ‚kowanie równania (5.3), po podstawieniu za h(x) wyrażenia (5.1), prowadzi do ogólnej zależnoÅ›ci napiÄ™ciowo-prÄ…dowej dla tranzystora z kanaÅ‚em typu n 3 3 Å„Å‚ 2 2µsµ0 îÅ‚ Å‚Å‚üÅ‚ ôÅ‚ (UDS +È0 -UGS ) - (È0 -UGS ) (5.4) ID = G0 ôÅ‚UDS - 2 2 òÅ‚ śłżł 3 ôÅ‚ qa2Nd ïÅ‚ ôÅ‚ ðÅ‚ ûÅ‚þÅ‚ ół gdzie qaWµn Nd G0 = (5.5) L jest konduktancjÄ… geometrycznÄ… kanaÅ‚u. Należy pamiÄ™tać, że zależność (5.4) zostaÅ‚a wyprowadzona dla ciÄ…gÅ‚ego ( a wiÄ™c, gdy ćłU ćł<ćłU ćł) kanaÅ‚u neutralnego o dÅ‚ugoÅ›ci L miÄ™dzy zródÅ‚em a drenem, przez który przepÅ‚ywa staÅ‚y prÄ…d drenu I . Dla tranzystorów z kanaÅ‚em n napiÄ™cia U i U sÄ… ujemne a U jest dodatnie, zaÅ› dla tranzystora z kanaÅ‚em p znaki sÄ… przeciwne; zatem przy U <0, także prÄ…d I w zależnoÅ›ci równoważnej (5.4) dla tranzystora JFET z kanaÅ‚em typu p bÄ™dzie ujemny (rys.5.1a). Dla maÅ‚ych napięć drenu; gdy U <<È0-U , to korzystajÄ…c z rozwinięć dwumianowych można wykazać, że ëÅ‚ È - UGS öÅ‚ 0 ID = G0 1 - ÷Å‚ (5.6) ìÅ‚ U DS È + U íÅ‚ Å‚Å‚ 0 P czyli prÄ…d drenu jest liniowÄ… funkcjÄ… U w liniowym zakresie pracy tranzystora (rys.5.3). Gdy U = -U , to z powyższej zależnoÅ›ci wynika, że I = 0. W miarÄ™ wzrostu różnicy potencjałów pomiÄ™dzy drenem a bramkÄ… zmniejsza siÄ™ wysokość neutralnego kanaÅ‚u. Jeżeli przez U oznaczymy napiÄ™cie na drenie przy którym zetknÄ… siÄ™ obszary Å‚adunku 95 przestrzennego w jednym punkcie na koÅ„cu drenu przy x=L, to w zależnoÅ›ci (5.1) tym razem mamy h(L)=a oraz U(L)=U . StÄ…d otrzymujemy U - UGS = U (5.7) DSS P I U -U =U zakres nasycenia zakres liniowy zakres przebicia 0 U Rys.5.3. Charakterystyki wyjÅ›ciowe tranzystora n-JFET. U jest takÄ… wartoÅ›ciÄ… napiÄ™cia na drenie U , przy której na koÅ„cu kanaÅ‚u pole elektryczne jest na tyle duże, że w krzemie (Si) nastÄ™puje nasycenie prÄ™dkoÅ›ci noÅ›ników, a w arsenku galu (GaAs) pojawia siÄ™ efekt Gunna. Przy dalszym wzroÅ›cie U >U dÅ‚ugość efektywna neutralnego kanaÅ‚u L jest mniejsza niż dÅ‚ugość geometryczna (L przerwaniu (p. rys5.5), a funkcja (5.4) osiÄ…ga wartość maksymalnÄ…, którÄ… nazywamy prÄ…dem nasycenia ëÅ‚ G0 È + U 2 È - UGS öÅ‚ ()(5.8) 0 ìÅ‚ - 1 È - UGS +0 P IDsat = G0 ÷Å‚ () 0 3 È + U 3 íÅ‚ Å‚Å‚ 0 P NapiÄ™cie U miÄ™dzy drenem a zródÅ‚em w zakresie nasycenia speÅ‚nia warunek U > U = U - (È0 - U ) =U +U (5.9) Zatem w tych warunkach prÄ…d nasycenia I i napiÄ™cie nasycenia drenu U zależą tylko od potencjaÅ‚u bramki U . Dla U =0 i U =U prÄ…d ten ma wartość najwiÄ™kszÄ… îÅ‚2 È 0 Å‚Å‚ ëÅ‚ öÅ‚ È + U 0 P ìÅ‚ - 1 È + (5.10) IDSS = G0 ïÅ‚ ÷Å‚ śł 0 3 ïÅ‚3 íÅ‚ È + U Å‚Å‚ śł 0 P ðÅ‚ ûÅ‚ 96 Zwykle È d"U /3, zatem jeżeli przyjmiemy, że È H"0 oraz skorzystamy z zależnoÅ›ci (5.2) i (5.5), to maksymalny prÄ…d w zakresie nasycenia możemy oszacować nastÄ™pujÄ…co GU a3q2µn NdW 0 P0 IDSS d"= (5.10a) 36µ µ L s 0 W praktyce, zamiast dość zÅ‚ożonej zależnoÅ›ci (5.8), prÄ…d nasycenia obliczany jest wedÅ‚ug prostej, kwadratowej zależnoÅ›ci empirycznej 2 ëÅ‚ öÅ‚ UGS IDsat = IDSS 1 - (5.11a) ìÅ‚ ÷Å‚ íÅ‚ U Å‚Å‚ P Wraz ze wzrostem napiÄ™cia drenu: U >U maleje efektywna dÅ‚ugość kanaÅ‚u L'na charakterystykach wyjÅ›ciowych. Jest to tzw. efekt modulacji dÅ‚ugoÅ›ci kanaÅ‚u modelowany parametrem , który jest wyznaczany ze skoÅ„czonego nachylenia rzeczywistych charakterystyk I (U ,U ) w zakresie nasycenia. Efekt modulacji kanaÅ‚u modyfikuje zależność (5.11a) do postaci 2 ëÅ‚ öÅ‚ UGS IDsat = IDSS 1 -() 1 + U (5.11b) ìÅ‚ ÷Å‚ DS íÅ‚ U Å‚Å‚ P Przy staÅ‚ych potencjaÅ‚ach na drenie i bramce zÅ‚Ä…cza p -n pomiÄ™dzy bramkami a kanaÅ‚em majÄ… skoÅ„czonÄ… pojemność zÅ‚Ä…czowÄ… C , która przy Å›redniej wysokoÅ›ci warstwy zaporowej H wynosi WLµ µ s 0 CG = 2 (5.12) H W obszarze nasycenia przy napiÄ™ciu U =0, gdy H = a/2, pojemność C jest dwukrotnie wiÄ™ksza WLµ µo s CG = 4 (5.13) a Tranzystory JFET pracujÄ… zwykle w obszarze nasycenia. 97 G C C GS GD S D r I r SS D DD Rys.5.4. WielkosygnaÅ‚owy model tranzystora n-JFET wpisany w przekrój tranzystora WielkosygnaÅ‚owy model tranzystora skÅ‚ada siÄ™ ze zródÅ‚a prÄ…dowego opisanego równaniem (5.11a) lub (5.11b) oraz dwóch zaporowo spolaryzowanych diod o pojemnoÅ›ci zÅ‚Ä…czowej równej pojemnoÅ›ci bramki rozÅ‚ożonej pomiÄ™dzy elektrody zródÅ‚a i drenu: C =C +C (rys.5.4). Dla uzupeÅ‚nienia należy dodać, że dyskretne tranzystory JFET sÄ… elementami o czterech wyprowadzeniach zewnÄ™trznych (rys.5.3). Obszar podÅ‚oża (body) stanowi dodatkowÄ… bramkÄ™, którÄ… zwykle Å‚Ä…czy siÄ™ z bramkÄ… górnÄ… (joined-gate JFET). W ukÅ‚adach scalonych jest ona na wÅ‚asnym potencjale U lub uziemiona U =0. W zwiÄ…zku z tym, w idealizowanych modelach tych tranzystorów kanaÅ‚ ma wysokość 2a i jest jednostajnie i symetryczne zawężany z dwóch stron. Należy wiÄ™c przyjąć, że przewodność kanaÅ‚u G jest dwukrotnie mniejsza niż wartość okreÅ›lona wyrażeniem (5.5). p+ zródÅ‚o dren a L n I L D + - p+ - U U DS + GS Rys.5.5. Symetryczna struktura tranzystora JFET o podwójnej bramce w ukÅ‚adzie do pomiarów transkonduktancji - w zakresie nasycenia ze skróconym kanaÅ‚em efektywnym do L 98 5.2.1. Parametry maÅ‚osygnaÅ‚owe tranzystora JFET Dla okreÅ›lenia maÅ‚osygnaÅ‚owych wÅ‚aÅ›ciwoÅ›ci tranzystora JFET definiujemy dwa podstawowe parametry maÅ‚osygnaÅ‚owe: - konduktancjÄ™ drenu g (kanaÅ‚u), okreÅ›lanÄ… też jako konduktancja wyjÅ›ciowa g "ID gd a" go a" przy U =const (5.14) "U DS oraz - transkonduktancjÄ™ "ID gm a" przy U =const (5.15) "UGS Z zależnoÅ›ci (5.6) Å‚atwo wykazać, że w zakresie liniowym transkonduktancja wynosi ëÅ‚ È - UGS öÅ‚ 0 gdl = G0ìÅ‚1 - ÷Å‚ (5.16) È + U íÅ‚ Å‚Å‚ 0 P oraz G0 UDS gml = (5.17) 2 È + U È - UGS ()( ) 0 P 0 W zakresie nasycenia transkonduktancja jest pochodnÄ… czÄ…stkowÄ… równania (5.8) i wynosi ëÅ‚ È - UGS öÅ‚ 0 gm = G0ìÅ‚1 - ÷Å‚ (5.18) È + U íÅ‚ Å‚Å‚ 0 P Natomiast wykorzystujÄ…c zależność kwadratowÄ… prÄ…du drenu I (5.11b), transkonduktancja, zgodnie z definicjÄ… (5.15), wynosi ëÅ‚ öÅ‚ ëÅ‚ öÅ‚ "IDsat 2IDSS UGS UGS gm a"= - 1 -= gm0 1 - (5.19) ìÅ‚ ÷Å‚ ìÅ‚ ÷Å‚ "UGS U íÅ‚ U Å‚Å‚ íÅ‚ U Å‚Å‚ P P P gdzie 2IDSS gm0 =- (5.19a) U P Należy tutaj zauważyć, że zależnoÅ›ci (5.16) i (5.18) sÄ… identyczne, zatem konduktancja wyjÅ›ciowa zakresu liniowego jest równa transkonduktacji zakresu nasycenia. Ponadto rezystancja szeregowa zródÅ‚a r , tj. rezystancja niemodulowanej części obszaru 99 półprzewodnika przy wyprowadzeniu zródÅ‚a, redukuje wartość teoretycznÄ… g do wartoÅ›ci efektywnej gm gmef = (5.20) , 1 + gmrss Empiryczna i prosta zależność kwadratowa prÄ…du w zakresie nasycenia, okreÅ›lana zależnoÅ›ciÄ… (5.11a), zależy także od dwóch parametrów: U i I , które dla idealnego elementu Å‚atwo wyznaczyć z liniowego wykresu IDsat = f UGS . W rzeczywistym tranzystorze ( ) należy uwzglÄ™dnić efekt modulacji dÅ‚ugoÅ›ci kanaÅ‚u okreÅ›lony współczynnikiem w zależnoÅ›ci (5.11b), i wówczas konduktancja kanaÅ‚u z definicji wyniesie 2 ëÅ‚ öÅ‚ "IDsat UGS gds a"= IDSS 1 - H" IDsat (5.21) ìÅ‚ ÷Å‚ "U íÅ‚ U Å‚Å‚ DS P Zatem konduktancja w zakresie nasycenia jest proporcjonalna do prÄ…du drenu, ale niezależna od U . Jest to intuicyjnie możliwe do przyjÄ™cia, bowiem mostkowanie obszaru zubożonego pomiÄ™dzy zródÅ‚em a drenem przez przewodzÄ…cy kanaÅ‚ oraz jego modulacja przez U bÄ™dzie siÄ™ zmniejszać, gdy szerokość tego zubożonego obszaru jest powiÄ™kszana przez wzrost UGS , a tym samym spadek wartoÅ›ci prÄ…du I . UwzglÄ™dniajÄ…c to zjawisko, wzrost U jest równoważny
wzrostowi UGS , zatem należy oczekiwać, że g 0, gdy U ". KonsekwencjÄ… tego zjawiska sÄ… różne wartoÅ›ci współczynnika otrzymywane z nachylenia rzeczywistych charakterystyk wyjÅ›ciowych dla poszczególnych parametrów U . Pomimo, że pojemność bramki jest rozÅ‚ożona wzdÅ‚uż kanaÅ‚u, to dla uproszczenia jest ona reprezentowana w modelu zastÄ™pczym tranzystora JFET (rys.5.4) przez dwie wielkoÅ›ci: pojemność pomiÄ™dzy bramkÄ… i drenem C oraz pojemność pomiÄ™dzy bramkÄ… i zródÅ‚em C , przy czym obie sÄ… zależne od napiÄ™cia Cgs0 Cgs = (5.22a) 1 ëÅ‚ UGS 3 öÅ‚ 1 + ìÅ‚ ÷Å‚ íÅ‚ È Å‚Å‚ 0 100 Cgd 0 Cgd = (5.22b) 1 ëÅ‚ öÅ‚ UGD 3 1 + ìÅ‚ ÷Å‚ íÅ‚ È Å‚Å‚ 0 Ponadto w modelu monolitycznego tranzystora JFET należy uwzglÄ™dnić pojemność C , tj. pojemność bramka-podÅ‚oże, która również wykÅ‚adniczo zależy od staÅ‚ego napiÄ™cia pomiÄ™dzy bramkÄ… i podÅ‚ożem U : Cgss0 Cgss = (5.23) 1 ëÅ‚ öÅ‚ UGSS 2 1 + ìÅ‚ ÷Å‚ íÅ‚ È Å‚Å‚ 0 MaÅ‚osygnaÅ‚owy model tranzystora JFET w zakresie wielkich czÄ™stotliwoÅ›ci, w którym pominiÄ™to konduktancjÄ™ zÅ‚Ä…cz spolaryzowanych zaporowo, przedstawia rys.5.6. Cgd rdd D' G D Cgss Ugs Cgs gds gmUgs S' Rys.5.6. MaÅ‚osygnaÅ‚owy model rss tranzystora JFET w zakresie wielkich czÄ™stotliwoÅ›ci S Najczęściej rezystancje szeregowe r i r sÄ… pomijane w schemacie zastÄ™pczym, a ich wpÅ‚yw uwzglÄ™dnia siÄ™ poÅ›rednio poprzez modyfikacje innych parametrów, takich jak g - wedÅ‚ug zależnoÅ›ci (5.20), czy I . 5.2.2. Ograniczenia czÄ™stotliwoÅ›ciowe i czÄ™stotliwość odciÄ™cia Praca tranzystora JFET w zakresie wielkich czÄ™stotliwoÅ›ci jest ograniczona dość dużą pojemnoÅ›ciÄ… bramki. Czas Å‚adowania pojemnoÅ›ci okreÅ›lany jest dla uproszczonego schematu zastÄ™pczego przedstawionego na rys.5.7. CzÄ™stotliwość odciÄ™cia (cut-off) f jest czÄ™stotliwoÅ›ciÄ… przy której prÄ…d wejÅ›ciowy I jest równy prÄ…dowi zródÅ‚a sterowanego g U tranzystora przy zwartym wyjÅ›ciu (jak zaznaczono liniÄ… przerywanÄ… na rys.5.7). 101 Iin Cgd Id G D Ugs Cgss Cgs gmUgs Rys.5.7. Uproszczony maÅ‚osygnaÅ‚owy model tranzystora JFET w zakresie wielkich czÄ™stotliwoÅ›ci. S Przy zwartym wyjÅ›ciu prÄ…d wejÅ›ciowy jest prÄ…dem Å‚adowania pojemnoÅ›ci wejÅ›ciowych Iin = jÉ Cgs + Cgb + Cgd U (5.24) () gs Jeżeli przyjmiemy, że C =C +C +C , to przy czÄ™stotliwoÅ›ci odciÄ™cia Iin = 2Ä„fTCGU = gmU (5.25) gs gs stÄ…d gm gm fT == (5.26) 2Ä„CG 2Ä„ Cgs + Cgd + Cgss () Maksymalna wartość transkonduktancji nie może być wiÄ™ksza niż konduktancja G , wyznaczona wedÅ‚ug (5.5), a Å›rednia pojemność bramki jest okreÅ›lona zależnoÅ›ciÄ… (5.12). Te dwie wielkoÅ›ci pozwalajÄ… oszacować maksymalnÄ… czÄ™stotliwość odciÄ™cia jako qµna2 Nd fT d" (5.27) 4Ä„µ µ L2 s 0 5.3. TRANZYSTOR POLOWY Z IZOLOWAN BRAMK (MOSFET) I JEGO MODELE W tranzystorach polowych MOSFET z izolowanÄ… bramkÄ… prÄ…d pÅ‚ynÄ…cy miÄ™dzy zródÅ‚em a drenem w przypowierzchniowym kanale jest sterowany potencjaÅ‚em bramki poprzez warstwÄ™ dielektryka (rys.5.8). Jest to prÄ…d noÅ›ników wiÄ™kszoÅ›ciowych. KanaÅ‚ jest zwykle indukowany, a tranzystor jest aktywny, gdy potencjaÅ‚ na bramce przekroczy wartość progowÄ… U . Poniżej tej wartoÅ›ci przez tranzystor pÅ‚ynÄ… znikome prÄ…dy przypowierzchniowe, a tranzystor znajduje siÄ™ w stanie odciÄ™cia. Przy staÅ‚ych wartoÅ›ciach napiÄ™cia na bramce U (w ukÅ‚adzie wspólnego zródÅ‚a OS) na charakterystykach prÄ…dowych drenu w ukÅ‚adzie współrzÄ™dnych (I ,U ) mogÄ… być wyszczególnione dwa 102 zakresy napięć U : liniowy (nienasycenia) i nasycenia, rozdzielone napiÄ™ciem U =U -U (rys.5.9). bramka z warstw SiO2 (oxide) (Gate) dren (Dren) zródÅ‚o (Source) SiO2 n+ n-kana n+ L W podÅ‚oże (Body) p-Si Rys.5.8. Przekrój poprzeczny tranzystora n-MOS (z zaindukowanym kanaÅ‚em typu n) W najprostszym opisie tranzystora prÄ…d drenu w zakresie liniowym jest kwadratowÄ… funkcjÄ… napiÄ™cia drenu U 2 îÅ‚ Å‚Å‚ W U DS ID = µCox ïÅ‚ UGS - UT U - (5.28) () śł DS L 2 ðÅ‚ ûÅ‚ natomiast w zakresie nasycenia ma wartość I , niezależnÄ… od U i równÄ… W IDsat = µCox(UGS -UT )2 (5.29) 2L gdzie: W - szerokość, L - dÅ‚ugość kanaÅ‚u, µ - ruchliwość noÅ›ników w kanale oraz C - pojemność warstwy tlenkowej (izolacyjnej) bramki na jednostkÄ™ powierzchni. I nachylenie jest efektem D I zakres U =U DS0 DS GS-U modulacji dÅ‚ugoÅ›ci kanaÅ‚u T liniowy U GS-U T 1,00 =1 U -U GS T 0 0,75 zakres ...=0,867 nasycenia ...=0,707 0,50 ...=0,5 0,25 stan odciÄ™cia ...=0,0 U 0 0,5 1,0 1,5 2,0 DS U -U GS T 0 103 Rys.5.9. Charakterystyki wyjÅ›ciowe tranzystora MOSFET (znormalizowane wzglÄ™dem U a"U oraz I = I ) W tym najprostszym modelu tranzystora MOSFET (Sah - 1960) prÄ…d przepÅ‚ywajÄ…cy przez kanaÅ‚ jest wyznaczony z równania dla skÅ‚adowej dryftowej transportu prÄ…du noÅ›ników przez liniowo zawężajÄ…cy siÄ™ kanaÅ‚, powstaÅ‚y w obszarze Å‚adunku przestrzennego. Jest to tzw. przybliżenie stopniowanego kanaÅ‚u, gdy pole elektryczne w kierunku prostopadÅ‚ym do kanaÅ‚u jest znacznie wiÄ™ksze niż natężenie pola wzdÅ‚uż kanaÅ‚u, w którym dryfujÄ… zaindukowane noÅ›niki. PeÅ‚ny ukÅ‚ad równaÅ„ opisujÄ…cych charakterystyki statyczne tranzystora MOSFET z kanaÅ‚em typu n jest nastÄ™pujÄ…cy I =0 (5.30a) ID = 0 dla U 0 (stan odciÄ™cia) (5.30b) W ëÅ‚U - UT - U öÅ‚U dla U >U i 0DS I = K' ìÅ‚ ÷Å‚ DGS DS íÅ‚ Å‚Å‚ L 2 (zakres liniowy) (5.30c) K' W IDsat = UGS ( - UT 1 + Udla U >U i U >U -U )2() DS 2 L (zakres nasycenia) (5.30d) gdzie UT = UT0 + Å‚ È - UBS - È (5.31) () si si Dla kanaÅ‚u wzbogacanego U >0, zaÅ› dla kanaÅ‚u zubożanego U <0. Do opisu charakterystyk wykorzystano ponadto tzw. parametry technologiczne tranzystorów K =µ C - parametr transkonduktancyjny, U - napiÄ™cie progowe przy napiÄ™ciu podÅ‚oże-zródÅ‚o U =0, Å‚ - współczynnik objÄ™toÅ›ciowy napiÄ™cia progowego, - współczynnik modulacji dÅ‚ugoÅ›ci kanaÅ‚u, È - potencjaÅ‚ powierzchniowy przy silnej inwersji półprzewodnika. Dla tranzystorów MOSFET z kanaÅ‚em typu p powyższe równania przyjmujÄ… nastÄ™pujÄ…ce postaci I = 0 (5.32a) ID = 0 dla U >U , U <0 (stan odciÄ™cia) (5.32b) 104 W ëÅ‚U - UT - U öÅ‚U dla U U >U -U DS ID =-K' ìÅ‚ ÷Å‚ GS DS íÅ‚ Å‚Å‚ L 2 (zakres liniowy) (5.32c) K' W IDsat =- ( - UT 1 + UDS dla U UGS )2() 2 L (zakres nasycenia) (5.32d) gdzie: UT = UT0 - Å‚ È - UBS - È (5.33) () si si Dla kanaÅ‚u wzbogacanego U >0, zaÅ› dla kanaÅ‚u zubożanego U <0. Współczynniki K , Å‚, i È sÄ… dodatnie dla obu typów kanałów. Ponadto w projektowaniu tranzystorów używany jest tzw. parametr transkonduktancyjny tranzystora, nazywany też współczynnikiem wzmocnienia W K = K' (5.34) L Zestaw równaÅ„ (5.30-5.31) lub (5.32-5.33), opisujÄ…cy charakterystyki prÄ…dowo-napieciowe tranzystora MOSFET, jest wykorzystywany w modelu Shichmana-Hodgesa. Przy wyprowadzaniu tych zależnoÅ›ci prÄ…d drenu w zakresie nasycenia zostaÅ‚ powiÄ…zany z napiÄ™ciem na drenie U , bowiem wraz ze wzrostem U powyżej napiÄ™cia U (przy którym kanaÅ‚ traci ciÄ…gÅ‚ość pomiÄ™dzy zródÅ‚em a drenem) poszerza siÄ™ warstwa zubożona Å‚adunku przestrzennego i skraca efektywna elektrycznie dÅ‚ugość kanaÅ‚u z L do L . Także ze wzrostem U roÅ›nie Å‚adunek warstwy inwersyjnej w pobliżu drenu. ZależnoÅ›ci (5.30d) i (5.31d) majÄ… charakter empiryczny: maÅ‚a wartość =0,1...0,01 1/V potwierdza niewielki wpÅ‚yw U na I w zakresie nasycenia (rys.5.9). Aby uniknąć nieciÄ…gÅ‚oÅ›ci na granicy obszarów liniowego i nasycenia w charakterystykach prÄ…dowych czynnik (1+U ) można doÅ‚Ä…czyć także do zależnoÅ›ci dla zakresu liniowego. Wprowadza to oczywiÅ›cie pewien bÅ‚Ä…d dla zakresu liniowego, jednakże w praktyce nie ma to wiÄ™kszego znaczenia. 5.3.1 WielkosygnaÅ‚owy model zastÄ™pczy tranzystora MOSFET Rys.5.5 przedstawia model wielkosygnaÅ‚owy tranzystora MOS zaproponowany przez Shichmana i Hodgesa. W modelu tym istotna jest zależność zródÅ‚a prÄ…dowego I od staÅ‚ych napięć zewnÄ™trznych U , U oraz napiÄ™cia U pomiÄ™dzy 105 podÅ‚ożem a zródÅ‚em (równania 5.28 5.29 dla tranzystora n-MOS i równania 5.30 5.31 dla tranzystora p-MOS). Diody w tym schemacie reprezentujÄ… dwa zÅ‚Ä…cza n -p spolaryzowane zaporowo pomiÄ™dzy zródÅ‚em a podÅ‚ożem oraz drenem a podÅ‚ożem, z prÄ…dami îÅ‚ Å‚Å‚ ëÅ‚ öÅ‚ U IBD = Is ïÅ‚expìÅ‚ BD - 1śł (5.35a) ÷Å‚ ÕT ûÅ‚ íÅ‚ Å‚Å‚ ðÅ‚ îÅ‚ Å‚Å‚ ëÅ‚ öÅ‚ U IBS = Is ïÅ‚expìÅ‚ BS - 1śł (5.35b) ÷Å‚ Õ íÅ‚ Å‚Å‚ T ðÅ‚ ûÅ‚ gdzie I reprezentuje prÄ…dy nasycenia zÅ‚Ä…cz podÅ‚ożowych. D rDD CGD CBD D' D G UBD G B B UBS S CGS CBS C GB rSS S Rys.5.10. WielkosygnaÅ‚owy model zastÄ™pczy tranzystora n-MOS W celu zaporowej polaryzacji zÅ‚Ä…cz podÅ‚ożowych, w tranzystorze n-MOS zacisk podÅ‚oża B jest doÅ‚Ä…czany do najniższego potencjaÅ‚u w ukÅ‚adzie, zaÅ› w tranzystorze p-MOS, dla którego kierunki diod należy odwrócić w modelu wielkosygnaÅ‚owym, zacisk podÅ‚oża B doÅ‚Ä…czany jest do najwyższego potencjaÅ‚u w ukÅ‚adzie. Rezystancje r i r sÄ… rezystancjami niemodulowanych obszarów półprzewodnika przy drenie i zródle, które zwykle wynoszÄ… okoÅ‚o 50...100 om. PojemnoÅ›ci wystÄ™pujÄ…ce w tym schemacie można podzielić na trzy grupy: pojemnoÅ›ci barierowe C i C zaporowo spolaryzowanych zÅ‚Ä…cz B-D i B-S, wspólne pojemnoÅ›ci bramki C , C i C (ich wielkość zależy od 106 zakresu pracy tranzystora) oraz pojemnoÅ›ci pasożytnicze (konstrukcyjne), niezależne od zakresu pracy. 5.3.2. MaÅ‚osygnaÅ‚owy model tranzystora MOSFET Tranzystory MOS sÄ… typowymi elementami ukÅ‚adów cyfrowych, jednakże sÄ… one także wykorzystywane w analogowych ukÅ‚adach scalonych. MaÅ‚osygnaÅ‚owy model zastÄ™pczy, niezbÄ™dny przy analizie takich ukÅ‚adów, uzyskuje siÄ™ na bazie modelu wielkosygnaÅ‚owego, w którym uwzglÄ™dnione sÄ… maÅ‚e, linearyzowane zaburzenia parametrów wokół okreÅ›lonych staÅ‚ych ich wartoÅ›ci. W wyniku różniczkowania zależnoÅ›ci prÄ…dowo-napiÄ™ciowych (5.29), (5.30) i (5.31) w staÅ‚ych punktach pracy tranzystora definujemy jego maÅ‚osygnaÅ‚owe parametry: - transkonduktancjÄ™ "ID gm a" (5.36) "UGS U DS ,U BS =const - konduktancjÄ™ wyjÅ›ciowÄ… "ID go a" gds a" (5.37) "U DS U ,U =const GS BS oraz transkonduktancjÄ™ wynikajÄ…cÄ… z wpÅ‚ywu napiÄ™cia U na parametry kanaÅ‚u "ID gmb a" (5.38) "U BS U ,U =const DS GS WartoÅ›ci tych maÅ‚osygnaÅ‚owych parametrów zależą od zakresu, w którym znajduje siÄ™ punkt pracy tranzystora. Na przykÅ‚ad, w zakresie nasycenia transkonduktancja g , zgodnie zależnoÅ›ciÄ… (5.29), wynosi W KW ' gm = 2K' IDsat = UGS (5.39) ( - UT ) L L Zależność parametrów maÅ‚osygnaÅ‚owych od warunków wielko- sygnaÅ‚owych w powyższym wyrażeniu jest zatem wyrazna. Podobnie, korzystajÄ…c z definicji (5.38) możemy wyznaczyć transkonduktancjÄ™ g "ID "ID "UT gmb a"= (5.40) "UBS "UT "U BS 107 KorzystajÄ…c z zależnoÅ›ci (5.29) oraz uwzglÄ™dniajÄ…c, że "ID "ID =- , otrzymujemy "Õ "UGS T gmÅ‚ gmb = = ·gm (5.41) 2 È - UBS si gdzie · - współczynnik proporcjonalnoÅ›ci. Transkonduktancja g jest wykorzystywana, gdy pojawia siÄ™ skÅ‚adowa zmienna napiÄ™cia U . WykorzystujÄ…c zależnoÅ›ci (5.30) i (5.37) możemy wyznaczyć konduktancjÄ™ wyjÅ›ciowÄ… w obszarze nasycenia gds H" ID (5.42) MaÅ‚osygnaÅ‚owy model tranzystora MOSFET przedstawiono na rys.5.11. a) rdd Cgd G D Ugs Cgs ggs Cdb gmUgs gmbUbs Cbs rss Ubs Cgb S B b) Cgd G D ggs Cdb Ugs Cgs gmUgs gmbUbs Cbs Ubs S Cgb B Rys.5.11. MaÅ‚osygnaÅ‚owy model tranzystora MOSFET: a) z uwzglÄ™dnieniem rezystancji szeregowych r i r , 108 b) z pominiÄ™ciem tych rezystancji WartoÅ›ci rezystancji r i r sÄ… porównywalne z wartoÅ›ciami staÅ‚oprÄ…dowymi r i r w modelu wielkosygnaÅ‚owym z rys.5.10. Podobnie przyjmuje siÄ™, że C , C , C , C i C sÄ… takie same jak C , C , C , C i C . Przy szacowaniu wielkoÅ›ci C i C można skorzystać z przybliżeÅ„ gmb Cbs = Cgs = ·Cgs (5.43) gm gmb Cbd = Cgd = ·Cgd (5.44) gm PomijajÄ…c ponadto rezystancje szeregowe r i r otrzymujemy nieco uproszczony schemat zastÄ™pczy tranzystora MOSFET w zakresie wielkich czÄ™stotliwoÅ›ci (rys.5.11b) najczęściej wykorzystywany przy analizie rÄ™cznej ukÅ‚adów z tymi tranzystorami. Podobnie jak w modelu tranzystora JFET, tak i w tym przypadku, wpÅ‚yw szeregowych rezystancji r i r może być uwzglÄ™dniony poÅ›rednio poprzez modyfikacje innych parametrów, takich jak g , g i U . Tranzystory MOSFET pracujÄ… najczęściej przy staÅ‚ym napiÄ™ciu U , tj. nie wystepuje skÅ‚adowa zmienna U , co oznacza, że w tranzystorze nie wystÄ™puje efekt podÅ‚oża. Na rys. 5.12. przedstawiono maÅ‚osygnaÅ‚owy schemat zastÄ™pczy tranzystora MOSFET w konfiguracji OS w zakresie wielkich czÄ™stotliwoÅ›ci, gdy nie wystÄ™puje w nim efekt podÅ‚oża (dla prÄ…du zmiennego zródÅ‚o S i podÅ‚oże B sÄ… zwarte). Struktura tego schematu zastÄ™pczego jest taka sama jak dla tranzystora JFET (rys.5.6), a jedynie inaczej należy interpretować pojemnoÅ›ci C i C . Cgd rdd Id Iin GD ' Ugs Cgb Cgs gds Cdb ' gmUgs Ugs S' rss S Rys.5.12. MaÅ‚osygnaÅ‚owy model tranzystora MOSFET w zakresie wielkich czÄ™stotliwoÅ›ci, bez uwzglÄ™dnienia efektu podÅ‚oża Rezystancja szeregowa zródÅ‚a r ma wpÅ‚yw na parametry pracy tranzystora, bowiem redukuje amplitudÄ™ maÅ‚osygnaÅ‚owÄ… napiÄ™cia 109 sterujÄ…cego zródÅ‚em prÄ…dowym do wartoÅ›ci U zwarciowy prÄ…d drenu wynosi tylko Id = gmU 'gs (5.45) Z relacji pomiÄ™dzy napiÄ™ciami U i U , dla maÅ‚ych czÄ™stotliwoÅ›ci pracy tranzystora (przy pominiÄ™ciu wszystkich pojemnoÅ›ci w schemacie na rys.5.12), Å‚atwo można wykazać, że ëÅ‚ gm öÅ‚ Id = U = g'm U (5.46) ìÅ‚ ÷Å‚ gs 1 + gmrss gs íÅ‚ Å‚Å‚ Rezystancja zródÅ‚a r redukuje transkonduktancjÄ™ g do jej wartoÅ›ci efektywnej: g < g . Przy analizie pracy tranzystora w zakresie wielkich czÄ™stotliwoÅ›ci w schemacie zastÄ™pczym najczęściej pomija siÄ™ r , r , r oraz C , tworzÄ…c jego wielkoczÄ™stotliwoÅ›ciowy schemat zastÄ™pczy przedstawiony na rys.5.13, przy czym R jest rezystancjÄ… obciążenia. a) b) Cgd Ig Id I g Id D D G G Cgb Cgs Ugs Cgb Cgs Cdb RL Ugs CM Cgd Cdb RL gmUgs gmUgs S S Rys.5.13 a) MaÅ‚osygnaÅ‚owy schemat zastÄ™pczy tranzystora n-MOSFET w konfiguracji OS dla wielkich czÄ™stotliwoÅ›ci, b) - z uwzglÄ™dnieniem efektu Millera. Podobnie jak dla tranzystora JFET, czÄ™stotliwość odciÄ™cia f jest czÄ™stotliwoÅ›ciÄ… przy której prÄ…d wejÅ›ciowy I jest równy prÄ…dowi zródÅ‚a sterowanego g U tranzystora przy zwartym wyjÅ›ciu. CzÄ™stotliwość ta jest okreÅ›lona zależnoÅ›ciÄ… (por. z 5.26) gm fT = (5.47) 2Ä„ Cgs + Cgd + Cgb () Jeżeli wyjÅ›cie jest obciążone rezystancjÄ… R , to prÄ…d wejÅ›ciowy, zgodnie ze schematem na rys.5.13a, jest prÄ…dem bramki i wynosi Å„Å‚ üÅ‚ îÅ‚ 1 + gmRL Å‚Å‚ôÅ‚ Ig = jÉôÅ‚Cgs + Cgb + Cgd ïÅ‚ (5.48) òÅ‚ śł żłU gs ôÅ‚ ïÅ‚1 + jÉRLCgd śłþÅ‚ ðÅ‚ ûÅ‚ôÅ‚ ół Zwykle 1>ÉR (C +C ), co uproÅ›ci ostatnie wyrażenie do postaci 110 Ig = jÉ + Cgb + Cgd 1+ gmRL gs (5.49) () [C ]U gs Pojemność C zostaÅ‚a zatem zwielokrotniona przez wzmocnienie tranzystora g R do wartoÅ›ci CM a" Cgd 1 + gmRL (5.50) () Jest to tzw. wejÅ›ciowa pojemność Millera uwzglÄ™dniona w unilateralnym, maÅ‚osygnaÅ‚owym schemacie zastÄ™pczym na rys.5.13b. Efekt Millera ogranicza maksymalnÄ… czÄ™stotliwość pracy tranzystora. CzÄ™stotliwość tÄ™ definiujemy jako czÄ™stotliwość przy której amplitudy prÄ…dów I i I sÄ… równe Id gm = (5.51) Ig 2Ä„f Cgs + Cgb + CM () Po przyrównaniu równoÅ›ci (5.51) do jednoÅ›ci, otrzymujemy czÄ™stotliwość odciÄ™cia f gm gm fc = = (5.52) 2Ä„Cin 2Ä„ Cgs + Cgb + CM () gdzie C jest równoważnÄ… pojemnoÅ›ciÄ… wejÅ›ciowÄ… bramki, którÄ… po uwzglÄ™dnieniu zależnoÅ›ci (5.50) okreÅ›limy nastepujaco Cin H" Cgs + Cgb + Cgd 1 + gmRL . () 5.4. MAAOSYGNAAOWY ADMITANCYJNY SCHEMAT ZASTPCZY TRANZYSTORÓW POLOWYCH W wiÄ™kszoÅ›ci zastosowaÅ„ ukÅ‚adowych tranzystory polowe jako elementy wzmacniajÄ…ce pracujÄ… w zakresie nasycenia w konfiguracji wspólnego zródÅ‚a (OS). Ich wÅ‚aÅ›ciwoÅ›ci wzmacniajÄ…ce wynikajÄ… z faktu, że stosunkowo niewielkie zmiany napiÄ™cia doprowadzone pomiÄ™dzy bramkÄ™ a zródÅ‚o wywoÅ‚ujÄ… duże zmiany prÄ…du drenu, a wiÄ™c również duże zmiany napiÄ™cia na rezystancji obciążenia. Dla opisu tych zmian, szczególnie przy analizie wÄ…skopasmowych ukÅ‚adów selektywnych, wÅ‚aÅ›ciwa jest reprezentacja admitancyjna z parametrami macierzy [y ] Ig = y11sUgs + y12sUds (5.53) Id = y21sUgs + y22sUds 111 Parametry macierzy y sÄ… okreÅ›lane w warunkach zwarcia maÅ‚osygnaÅ‚owego napiÄ™cia wejÅ›ciowego lub wyjÅ›ciowego i przy okreÅ›leniu prÄ…dów zmiennych na wyjÅ›ciu i wejÅ›ciu (rys.5.14) Ig Id G D y11s Ugs y11s Uds y21sUgs y12sUds S Rys.5.14. Admitancyjny schemat zastÄ™pczy tranzystora polowego dla konfiguracji OE. Ig Ig y11s = y12s = (5.54a) U Uds U =0 gs U =0 gs ds Id Id y21s = y22s = (5.54b) U Uds U gs =0 gs U =0 ds Współczynniki macierzy admitancyjnej można wyznaczyć z warunku równoważnoÅ›ci maÅ‚osygnaÅ‚owych napięć i prÄ…dów w schematach zastÄ™pczych na rys.5.11b i 5.14: (5.55a) y11s = jÉ Cgs + Cgb + Cgd y12s =- jÉCgd () y22s = gds + jÉ Cgb + Cgd (5.55b) y21s = gm - jÉCgd () WartoÅ›ci parametrów konduktancyjnych i pojemnoÅ›ci maÅ‚osygnaÅ‚owych znajdziemy także w karcie katalogowej tranzystora.