30112010(004)

30112010(004)



Politechnika Wrocławska

Grafika inżynierska - Podstawy Inżynierii

Pasowanie wymiarów

Pasowanie - sposób współdziałania współpracują.'>ch ze sobą c*ftei wałka / w umownym znaczeniu wyniaru zewnętrznego) oraz otworu ł w umownym znaczeniu wymiaru wewnętrznego)

Pasowanie

-    luźne występuję wtedy gdy połę tolerancji walka fcźy portZej poła loki uncji otworu

-    ciasno występuje, ody pole toleranc? wałka leży powyzisjpó&i toćeranćji.ctwoiu

-    pasowanie mieszane, gdy te poła pokrywają się cebowidf lub cłfictowo W ogólnej budowie maszyn używa się powszechnie pasowania •na zasadzie stałego otworu 4 H • na zasadzla stałego wałka - h

Pierwsze z nich jest uprzywilejowane. Do otworu, którego potożerte pola tolerancji okęital litera H, dobiera    z norm tolerancję walka tak, aby zapewnie zakładana Współpracę tytf?

etomtntów.


Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
30112010(002) Politechnika WrocławskaGrafika Inżynierska - Podstawy Inżynierii -__Tolerowanie wymiar
30112010(003) Politechnika WrocławskaGrafika Inżynierska - Podstawy InżynieriiTolerowanie wymiarów O
30112010(001) Politechnika Wrocławska:Grafika Inżynierska - Podstawy Inżynierii Tolerowanie wymiarów
Politechnika WrocławskaGrafika Inżynierska - Podstawy InżynieriiTolerowanie wymiarów (hvmiar nominal
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej Tunel wodny model 24
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej Ostatnio zrealizowan
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej Ostatnio zrealizowan
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej ORGANIZACJA KSZTAŁCE
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej GŁÓWNY CEL
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej PRZEDMIOTY
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej BAZA DYDAKTYCZNA Baz
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej BAZA DYDAKTYCZNA RD-

więcej podobnych podstron