30112010(002)

Politechnika Wrocławska

Grafika Inżynierska - Podstawy Inżynierii

Tolerowanie wymiarów

Wynwy wulidihi teoretyczne, tolerowano - dokładność wykonania cienieniu

- wyntey swobodno • nie    potrzebę ołreUwil odchyłek

% wymiary teoretyczno • określa sic bez podawania odchyłek łnp wynury <fi Intrzfdtf) V

•• wymiary tolorowano - określa się odchyłki Q wymiary zewnętrzno (np. średnice zewnftrzne)

□    wymiary w—nęiim (np. średnice wewnętrzne)

U wymiary ffwmnt

□    zjuwzypoirnhi

Tolerowanie - określenie przedziału wartości dopuszczalnych odchyłek odwyirterti nominaJrioflo

TobrowimM nwbodni - podawanie odchyłek nie związanych z wymaganiami normalizacyjnymi a dobranie odchyłek następuje wg uznania konstruktora i jest lo zawsze tolerowanie kczhowe)

Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
30112010(004) Politechnika WrocławskaGrafika inżynierska - Podstawy InżynieriiPasowanie wymiarów Pas
30112010(003) Politechnika WrocławskaGrafika Inżynierska - Podstawy InżynieriiTolerowanie wymiarów O
30112010(001) Politechnika Wrocławska:Grafika Inżynierska - Podstawy Inżynierii Tolerowanie wymiarów
Politechnika WrocławskaGrafika Inżynierska - Podstawy InżynieriiTolerowanie wymiarów (hvmiar nominal
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej Tunel wodny model 24
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej Ostatnio zrealizowan
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej Ostatnio zrealizowan
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej ORGANIZACJA KSZTAŁCE
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej GŁÓWNY CEL
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej PRZEDMIOTY
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej BAZA DYDAKTYCZNA Baz
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej BAZA DYDAKTYCZNA RD-

więcej podobnych podstron